香港新闻网11月9日电　11月5日至10日，第九届中国国际进口博览会在上海举行。会上，上海微电子装备集团（SMEE）展出自主研发的新一代前道干式光刻机SSC800、SSB800模型，展示中国前道光刻装备自主化的阶段性成果。

光刻机是半导体制造的核心设备，负责把电路图案从掩模版（光罩）“印”到硅片上。“前道”指芯片制造最前段的工序，对精度要求极高；“干式”则与浸润式相对，具体指使用空气介质而非液体介质（如浸没光刻机中的水）进行曝光工作。

SMEE微信公众号发文介绍，展出的模型采透明剖视设计，直观呈现整机光学光路与内部机电系统的链路布局；该平台为国产标准化前道光刻装备架构，适配I-line、KrF两类主流技术路线，整机核心的高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输系统、高精度对准调平传感系统均实现全链条自主可控，具备稳定的工艺适配能力与产线运行可靠性。

据悉，目前中国国产前道干式光刻机成像性能已与国际同类领先产品水准相当，套刻精度、生产效率紧密追赶国际标杆。在售的SSC800系列KrF与SSB800系列I-line机型，基于自研双工件台平台，均搭载国产自主大NA物镜，关键曝光成像指标对标国际标杆；SSC800整体性能跻身行业第一梯队。

基于全栈自主可控技术底座，关键零部件国产化率突破90％，已实现定型与规模化量产，填补国内空白。多台设备已在国内头部逻辑、存储量产线长期稳定运行，累计支持产线流片超千万片，设备有效运行率超92％。

SMEE成立于2002年，是中国唯一具备前道干式光刻机稳定量产交付能力的制造商，也是中国前道光刻装备自主供给体系的核心支撑主体，业务覆盖核心光刻装备的设计研发、生产制造、市场销售与全流程技术服务。（完）