香港新聞網11月9日電　11月5日至10日，第九屆中國國際進口博覽會在上海舉行。會上，上海微電子裝備集團（SMEE）展出自主研發的新一代前道乾式光刻機SSC800、SSB800模型，展示中國前道光刻裝備自主化的階段性成果。

光刻機是半導體製造的核心設備，負責把電路圖案從掩模版（光罩）“印”到硅片上。“前道”指芯片製造最前段的工序，對精度要求極高；“乾式”則與浸潤式相對，具體指使用空氣介質而非液體介質（如浸沒光刻機中的水）進行曝光工作。

SMEE微信公眾號發文介紹，展出的模型採透明剖視設計，直觀呈現整機光學光路與內部機電系統的鏈路布局；該平台為國產標準化前道光刻裝備架構，適配I-line、KrF兩類主流技術路線，整機核心的高精度物鏡與照明系統、高速雙工件台與掩模台、一體化自動物料傳輸系統、高精度對準調平傳感系統均實現全鏈條自主可控，具備穩定的工藝適配能力與產線運行可靠性。

據悉，目前中國國產前道乾式光刻機成像性能已與國際同類領先產品水準相當，套刻精度、生產效率緊密追趕國際標桿。在售的SSC800系列KrF與SSB800系列I-line機型，基於自研雙工件台平台，均搭載國產自主大NA物鏡，關鍵曝光成像指標對標國際標桿；SSC800整體性能躋身行業第一梯隊。

基於全棧自主可控技術底座，關鍵零部件國產化率突破90％，已實現定型與規模化量產，填補國內空白。多台設備已在國內頭部邏輯、存儲量產線長期穩定運行，累計支持產線流片超千萬片，設備有效運行率超92％。

SMEE成立於2002年，是中國唯一具備前道乾式光刻機穩定量產交付能力的製造商，也是中國前道光刻裝備自主供給體系的核心支撐主體，業務覆蓋核心光刻裝備的設計研發、生產製造、市場銷售與全流程技術服務。（完）