香港中通社11月9日電（記者 葉永成）近日，在第九屆進博會上，上海微電子裝備集團（SMEE）攜自主研發的新一代前道乾式掃描投影光刻機SSC800、SSB800（模型）亮相中國館，正式對外展示中國前道光刻裝備自主化的最新階段性成果。

光刻機是半導體製造中的核心裝備，被譽為“半導體工業皇冠上的明珠”，其本質是一套超精密的投影成像系統。

這次展出的模型採用透明剖視設計，直觀呈現整機光學光路與內部機電系統的鏈路布局。對於光刻機這類高度複雜的尖端工業裝備而言，剖視模型的意義就在於讓外界得以一窺原本高度保密的內部結構，光的傳輸路徑、機電系統的協同邏輯全部一目瞭然。

就這一階段性成果，宣沅（香港）科技交流中心研究員宋忠平9日接受香港中通社採訪時指出，這是中國在先進製程光刻機上的一次巨大的突破，由於美國要求荷蘭等國家對中國封鎖限制光刻機，中方必須要立足於國產來生產光刻機，所以這一次亮相進博會，一定程度突破了被西方國家“卡脖子”的困境。

值得留意的是，該設備關鍵零部件國產化率已突破90%且有效運行率超92%。宋忠平說：“這款光刻機儘管製程不像國際上那麼領先，但它也解決了我們現在工業生產的實際應用問題，也可以完全大規模地生產半導體芯片，解決了我們先進芯片的生產能力問題，實現國產化和自主化。”

不過，單純補齊光刻機這種方式，還不等於中國現在已經完全進入全國產半導體時代。宋忠平認為，這種大製程主要是用在工業領域，那麼半導體其實是一個非常超長鏈條的協同系統，單點設備突破，只是進程的一小步。

那麼難點在哪兒？他指出，難點在於整套鏈路的相互適配，必須要有穩定的量產成本，還要可控，有更多的產業鏈的一個協同發展。這種乾式光刻機的突破，主要解決了成熟製程光刻環節有沒有的安全問題，但真正說全國產時代，為時尚早。

宋忠平解釋，目前，正在進入成熟製程國產供應鏈的模塊化驗證時期，暫時還沒有邁入全國產的時代，尤其是高製程的芯片，中國雖有一定差距，至少它能夠實現部分替代，這也是很重要。包括光刻機生產出來很多芯片，它的良品率到底是多少，都是一個重要的參考指標。

他續稱，就是它是一個成熟製程的安全替代方案，尤其是在工業芯片應用領域，在自主可控問題上也是中國的優勢。但客觀來講，就是在製程的極限解析度，頂級的套刻技術，先進製程能力方面和國外比較還有差距，尤其是和阿斯麥爾（ASML）相比，目前是存在代差的。

部分行業資深人士分析，隨著前道光刻裝備這一最核心的短板被逐步補齊，真正的全國產半導體時代很快就要到來，國內整個芯片製造產業鏈的自主化迭代速度，也會隨之邁入全新的快車道。（完）